Tantal Sputtering Sib – Disk
Deskripsyon
Se sib sputtering Tantal sitou aplike nan endistri semi-conducteurs ak endistri kouch optik.Nou fabrike espesifikasyon divès kalite sib sputtering Tantal sou demann kliyan ki soti nan endistri semi-conducteurs ak endistri optik atravè metòd vakyòm EB founo SMELTING.Pa pridan nan pwosesis woule inik, atravè tretman konplike ak tanperati rkwit egzat ak tan, nou pwodwi diferan dimansyon nan sib yo sputtering Tantal tankou sib disk, sib rektangilè ak sib rotary.Anplis, nou garanti pite Tantal la se ant 99.95% a 99.99% oswa pi wo;gwosè grenn lan se pi ba pase 100um, flatness se anba a 0.2mm ak Rugosité sifas la se anba a Ra.1.6μm.Ka gwosè a dwe pwepare pa kondisyon kliyan yo.Nou kontwole bon jan kalite pwodwi nou yo atravè sous materyèl bwit jouk liy pwodiksyon an antye epi finalman delivre bay kliyan nou yo nan lòd asire w ke ou achte pwodwi nou yo ak bon jan kalite ki estab ak menm chak lot.
Nou ap eseye pi byen nou yo inove teknik nou yo, amelyore kalite pwodwi a, ogmante to itilizasyon pwodwi a, pi ba pri yo, amelyore sèvis nou yo bay kliyan nou yo ak pi bon kalite pwodwi men pi ba pri acha.Yon fwa ou chwazi nou, ou pral jwenn bon jan kalite pwodwi ki estab nou yo, pri pi konpetitif pase lòt founisè ak sèvis alè, segondè efikas.
Nou pwodwi sib R05200, R05400 ki satisfè estanda ASTM B708 epi nou ka fè sib dapre desen ou yo bay yo.Pran avantaj de bon jan kalite lengote Tantal nou yo, ekipman avanse, teknoloji inovatè, ekip pwofesyonèl, nou adapte objektif sputtering obligatwa ou yo.Ou ka di nou tout kondisyon ou yo epi nou dedye nan fabrikasyon sou bezwen ou yo.
Kalite ak gwosè:
ASTM B708 Standard Tantal Sputtering Sib, 99.95% 3N5 - 99.99% 4N Pite, Disk Sib
Konpozisyon chimik:
Tipik analiz: Ta 99.95% 3N5 - 99.99% (4N)
Enpurte metalik, ppm max pa pwa
Eleman | Al | Au | Ag | Bi | B | Ca | Cl | Cd | Co | Cr | Cu | Fe |
Kontni | 0.2 | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0.1 | 0.1 | 1.0 | 1.0 | 0.05 | 0.25 | 0.75 | 0.4 |
Eleman | Ga | Ge | Hf | K | Li | Mg | Na | Mo | Mn | Nb | Ni | P |
Kontni | 1.0 | 1.0 | 1.0 | 0.05 | 0.1 | 0.1 | 0.1 | 5.0 | 0.1 | 75 | 0.25 | 1.0 |
Eleman | Pb | S | Si | Sn | Th | Ti | V | W | Zn | Zr | Y | U |
Kontni | 1.0 | 0.2 | 0.2 | 0.1 | 0.0 | 1.0 | 0.2 | 70.0 | 1.0 | 0.2 | 1.0 | 0.005 |
Enpurte ki pa metalik, ppm max pa pwa
Eleman | N | H | O | C |
Kontni | 100 | 15 | 150 | 100 |
Balans: Tantal
Gwosè grenn: gwosè tipik <100μm gwosè grenn
Lòt gwosè grenn ki disponib sou demann
Flatness: ≤0.2mm
Rugosité sifas: <Ra 1.6μm
Sifas: poli
Aplikasyon
Materyèl kouch pou semi-conducteurs, optik